Строение ДЭС на границе раствор-металл
Двойной электрический слой создается электрическими зарядами, находящимися на металле ионами противоположного заряда (противоионами), ориентированными у поверхности электрода.
Формулирование ионной обкладки ДЭС происходит за счет электростатических сил и сил теплового движения, за счет последних сил ДЭС приобретает размытое диффузное строение. В создании ДЭС существенная роль принадлежит специфической абсорбции ионов.
Под строением ДЭС понимают распределение зарядов в его ионной обкладке. (Гельмгольц, Штерн, Фрумкин). ДЭС состоит из двух частей:
1) Плотная или гельмгольцевская часть, образованная ионами, плотно подошедшими к поверхности металла (10-8см);
2) Диффузная часть, созданная ионами, находящимися от металла на расстоянии большем радиуса сольватированного иона (10-7-10-3см).
Рассмотрим пример: Проводник I рода (Cu) поместили в раствор CuSO4 (проводник II рода).
Металл: в узлах кристаллической решетки находятся ионы меди, расположенные упорядоченно. В растворе электролита и у поверхности ионы Cu2+ покрыты сольватной оболочкой из молекул воды.
При равновесии
Рассмотрим два случая:
1) , т.е. химический потенциал катиона в кристаллической решетке больше химического потенциала катиона в растворе.
В этом случае ионы металла из твердого тела (проводника I р.) будут переходить в раствор до тех пор, пока: .
Поверхность металла заряжается отрицательно.
ψ – потенциал на границе металл - раствор
ψ1 – падение потенциала в плотном слое
ψ2 – падение потенциала в диффузной части.
ДЭС представляет собой как бы обкладку конденсатора.
2) Ионы из раствора переходят на поверхность металла, заряжая ее положительно.
ДЭС возникает всегда на границе: проводник I рода – проводник II рода.
В целом ДЭС электронейтрален, его толщина зависит от концентрации раствора, заряда металла и температуры.
В концентрированных растворах диффузная часть практически отсутствует.
Дата добавления: 2017-03-12; просмотров: 1843;