Диффузия из ограниченного источника
Диффузия из ограниченного источника описывается уравнением Гаусса:
Начальные условия: N(x, 0)=0.
Граничные условия: Q0 - число атомов легирующего вещества, осажденного на единицу площади полупроводника, равно интегралу от N(x, t) по всей глубине полупроводника и N(x, t>>0)=0.
При x=0 концентрация легирующей примеси на поверхности будет равна:
Количество диффузанта, необходимого для осуществления диффузии на определенную глубину полупроводника заданного количества примеси, изменяющейся пропорционально exp(-z2), где , очень мало. Такое количество примеси можно ввести ионным легированием или предварительным проведением диффузии (преддиффузии) при низкой температуре в течение короткого времени. При этом на поверхности сформируется источник с необходимым малым содержанием примеси Q0:
,
где Q0 - количество примеси, поступающее в течение преддиффузии,
N01 - поверхностная концентрация при температуре преддиффузии,
D1 - коэффициент диффузии при температуре преддиффузии,
t1 - продолжительность преддиффузии.
Общее уравнение, позволяющее определить концентрацию примеси в полупроводнике, записывается в следующем виде:
, (2)
где индексы 1 относятся к разгонке примеси из источника сформированного на преддиффузии, а индексы 2 - к самому процессу диффузии.
Уравнение (2) справедливо для случая, когда выполняется следующее условие:
На рисунке 1 изображен профиль легирования из ограниченного источника:
Рис. 1.
Профили легирования при диффузии из бесконечного (кривая 1) и ограниченного (кривая 2) источников в сравнении изображены на рис. 2:
Рис. 2.
На рис. 3 показано формирование областей базы и эмиттера биполярного транзистора и указаны возможные значения глубин слоев с разным типом проводимости:
Рис. 3.
Дата добавления: 2020-11-18; просмотров: 317;