Термины и определения


Базирование – придание заготовке или изделию требуемого положения относительно выбранной системы координат.

База – поверхность иди сочетание поверхностей, ось, точка, принадлежащая заготовке или изделию и используемая для базирования.

Опорная точка – точка, символизирующая одну из связей заготовки или изделия с избранной системой координат.

Схема базирования – схема расположения опорных точек на базах заготовки или изделия.

Распределение опорных точек на поверхностях детали зависит в конечном итоге от конструкции приспособления, т.е. от расположения опорных элементов в приспособлении. Четкая простановка базовых точек дает возможность без лишних дополнительных положений составить основную идею базирования детали в приспособлении, т.е. представить основную конструктивную схему приспособления. В то же время система условных обозначений базовых точек не должна открывать возможности различного истолкования предлагаемой на технологическом эскизе схемы базирования.

Виды баз

Базирование необходимо для всех стадий создания изделия: конструирования, изготовления, измерения, а также при рассмотрении изделия в сборе. Отсюда возникает необходимость разделения по назначению на три вида: конструкторские, технологические измерительные.

Конструкторская база – база, используемая для определения положения детали или сборочной единицы в изделии. На чертеже детали или изделия чертежной конструкторской базой может быть любая поверхность, линия или точка относительно которых координируется положение любой другой поверхности линии или точки.

Основная конструкторская база – база, принадлежащая данной детали сборочной единице, и используемая для определения ее положения в изделии.

Рис. 3.3. Комплект основных баз корпусной детали

Вспомогательная конструкторская база – база, принадлежащая данной детали или сборочной единице и используемая для определения положения присоединяемого к ним изделия.

Рис. 3.4. Один из комплектов вспомогательных баз корпуса.

Технологическая база– база, используемая для определения относительного положения заготовки или изделия в процессе изготовления или ремонта.

Рис.3.5. Комплект технологических баз, определяющих положение детали в приспособлении

Измерительная база – база, используемая для определения относительного положения заготовки или изделия и средств измерения.

Рис.3.6. А – измерительная база

Установочная база – база, лишающая заготовку или изделие степеней свободы – перемещения вдоль одной координатной оси поворота вокруг двух других осей (в качестве установочной базы следует выбирать поверхность наибольших габаритных размеров).

Направляющая база – база, лишающая заготовку или изделие степеней свободы – перемещения вдоль одной координатной оси поворота вокруг другой оси (в качестве направляющей базы следует выбирать поверхность наибольшей протяженности).

Опорная база – база, лишающая заготовку или изделие одной ж свободы или перемещения вдоль одной координатной оси или поворота вокруг оси (в качестве опорной базы выбирают поверхность наименьших габаритных размеров).

Двойная направляющая база – база, лишающая заготовку или изделие четырех степеней свободы. – перемещения вдоль координатных осей и поворотов вокруг этих осей.

Рис. 3.7. Двойная направляющая база

Двойная опорная база – база, лишающая заготовку или изделие степеней свободы – перемещения вдоль двух координатных осей.

Рис. 3.8. Двойная опорная база

Явная база – база заготовки или изделия в виде реальной поверхности, разметочной риски или точки пересечения рисок.

Условная (скрытая) база – база заготовки или изделия в виде воображаемой плоскости, оси или точки. Например, ось цилиндрической детали, материализуемая коническими поверхностями центровых отверстий.



Дата добавления: 2016-07-05; просмотров: 2754;


Поиск по сайту:

Воспользовавшись поиском можно найти нужную информацию на сайте.

Поделитесь с друзьями:

Считаете данную информацию полезной, тогда расскажите друзьям в соц. сетях.
Poznayka.org - Познайка.Орг - 2016-2024 год. Материал предоставляется для ознакомительных и учебных целей.
Генерация страницы за: 0.007 сек.