Тенденции развития оборудования для газовой эпитаксии

В развитии оборудования для газовой эпитаксии мож­но выделить следующие направления:

–совершенствование условий ввода газовых потоков в реактор;

–повышение стерильности реакционных камер и газовых систем,

–агрегатирование нескольких реакционных камер;

–снижение рабочей температуры процессов;

–создание комплексной системы автоматического управления процессами осаждения с автоматическим контролем и регулированием параметров осаждения с помощью ЭВМ;

–разработка конструкций с объемным расположением подло­жек и их двусторонним нагревом;

–разработка оборудования непрерывного действия.

За последние годы возрос интерес к оборудованию непрерыв­ного действия для процессов эпитаксиального наращивания.

Установка непрерывного действия может представлять собой горизонтальную, открытую с обоих концов трубу для травления подложек и наращивания эпитаксиального слоя (рис.7.5). Труба разделена на несколько температурных и газовых зон, через кото­рые проходят подложки. Газовые барьеры создаются при помо­щи специальных устройств, четко разделяющих рабочие зоны и поддерживающих заданное направление газовых потоков. Внутрь трубы подается парогазовая смесь, служащая исходным материа­лом для наращивания эпитаксиаль-ного слоя.

Основные' проблемы при реализации непрерывного метода– транспортирование изделий в камере, создание надежных газовых затворов между реакционными зонами, устройствами загрузки и выгрузки, обеспечение задан-ного профиля температур вдоль каме­ры, выбор материалов для носителей подложки, транс-портного устройства и нагревателя для обеспечения минимального примес­ного фона.

Наиболее приемлемым решением является использование «спутников-носителей» подложек, перемещаемых с помощью транспортных средств или на газовой подушке.

Эффективным направлением повышения производительности и экономической целесообразности использования установок и до­рогостоящих производственных площадей является агрегатирова­ние нескольких реакционных камер (УНЭС-2). Одновременное проведение вспомогательных операций и процесса наращивания слоя в двух реакционных камерах, автоматизация и программи­рование основных операций позволили повысить производитель­ность установки.