Решение проекта микрополоскового фильтра

ПКМ по пункту Analysis в окне дерева проекта открываем оконце, в котором выбираем пункт Add Solution Setup…. Откроется окно Solution Setup, показанное на рис. 2.14, в котором устанавливаем частоту решения, являющейся основанием для начального разбиения на ячейки, равной 2 ГГц и щёлкаем ЛКМ по кнопке OK. Затем ПКМ под записью Analysis щелчком ПКМ по записи Setup1 открываем оконце, показанное на рис. 2.14, б. В нём ЛКМ выбираем пункт Add Frequency Sweep… и в открывшемся окне устанавливаем полосу частот расчета фильтра, от 1 до 10 ГГц через 0.2 ГГц – см. рис. 2.14, в. В заключение щёлкаем ЛКМ по кнопке OK.

а)

б)

в)

Рис. 2.14. Окно создания характеристик

Чтобы вывести результаты расчета S параметров в диапазоне частот, щёлкните в дереве проекта ПКМ по пункту Result → Create Modal Solution Report → Rectangular Plot. Появляется диалог, показанный на рис. 2.15:

Рис. 2.15. Выбор рассчитанных параметров для вывода на частотную

характеристику

Поскольку в конструкции два порта, то можно вывести четыре параметра:

S(P1,P1), S(P1,P2), S(P2,P1) и S(P2,P2), перечисленные в столбце Quantity. Выделив ЛКМ первый из выводимых параметров (например, S(P1,P1)) выполните щелчёк ЛКМ по кнопке New Report. Затем, добавляя очередную характеристику (выделяя её), щёлкаем ЛКМ по кнопке Add Traceи, в заключение, щёлкаем ЛКМ по кнопке Close. После выполнения анализа (HFSS → Analize All) получаем характеристики, показанные на рис. 2.16 (Step Size = 0.05 GHz установить самостоятельно).

Рис. 2.16. Частотная характеристика микрополоскового фильтра

В качестве результатов расчета можно считать также электрические и магнитные поля, распространяющиеся в пространстве СВЧ устройства. Выделим топологию фильтра (см. выше), затем ПКМ в окне конструктора вызываем ниспадающее меню и в нём выбираем командой Plot Fields → E → Mag_E → Done,выведем электрическое поле на поверхности фильтра (рис. 2.17) - для этого в дереве проекта работаем с пунктом Field Overlays.

Рис. 2.17. Электрическое поле, перпендикулярное поверхности металлической

формы фильтра

Для того, чтобы получить верную картину поля, распространяющегося вдоль фильтра, рекомендуется увеличить число адаптаций величины ячеек, до 12 и выше (щелчком ПКМ по палитре цветов и т. д.).

Итак, в этом разделе мы применили черчение сложной планарной структуры по точкам, используя ввод координат. Планарные схемы широко используются в технике СВЧ, и они анализируются с помощью программы HFSS исключительно точно.