Технические требования к ОС

Система должна обладать достаточно большой чувствительностью по отклонению, то есть отклонение луча на заданную величину (угла или линейного смещения в плоскости обработки) должно происходить при возможно меньшей величине отклоняющего фактора – напряжения или тока.

Система должна быть линейной, то есть отклонение луча (смещение в плоскости обработки) должно быть пропорционально величине отклоняющего фактора при любых допустимых для данной конструкции величинах угла отклонения или в любой части плоскости обработки.

Система не должна существенно нарушать фокусировку пучка, то есть сфокусированный пучок должен перемещаться ОС как одно целое. Форма и величина пятна должны оставаться приблизительно неизменными в любой части плоскости обработки.

Система должна обладать минимальной инерционностью, что вызывает необходимость обеспечивать минимальные величины паразитных емкостей и индуктивностей.

Система должна быть экономичной, то есть электрическая мощность, необходимая для отклонения электронного пучка на один угловой градус ( , , ) должна быть минимальной.

Электрические параметры ОС: индуктивность ( ), омическое сопротивление ( ), емкость ( ) должны выбираться с учетом совместной работы с генератором развертки для обеспечения необходимой величины и формы отклоняющего тока и напряжения.

Конструкция ОС должна быть технологичной и обеспечивать повторяемость параметров. Для отклонения электронных пучков применяют электрические, магнитные и комбинированные поля.