Сенситометрические характеристики отечественных фотопленок типа ЛИТ

а б

Рис. 152. Усиление незначительных различий в яркостях при съемке:

а – на контрастные; б – сверхконтрастные (типа ЛИТ) фотоматериалы

Например, для двух деталей, незначительно различающихся по яркости, при съемке на фотоматериалы с высоким контрастом можно так подобрать экспозицию, чтобы яркость одной из них совпадала с областью недодержек, а яркость другой – с прямолинейным участком характеристической кривой фотоматериала. В этом случае на изображении обеспечивается высокое различие в оптических плотностях, и чем выше контраст фотоматериала, тем большие различия можно получить. Наиболее эффективны при такой съемке фотоматериалы типа ЛИТ (ФТ-101, ФТ-111), у которых область недодержек минимальна.

Таблица 27

Проявители для фототехнических пленок

Метод экспонометрической дискриминации помех применяют для ослабления помех, яркости которых больше или меньше, чем у полезных деталей. В первом случае (В_помех < В_пол.) выдержка при съемке должна быть меньше оптимальной, а во втором (В_помех > В_пол.) – съемку ведут при выдержке больше оптимальной. При этом помехи на изображении распределяются в области недодержек (передержек) и сливаются с фоном. При использовании данного метода для выявления незначительных различий в яркостях довольно сложно подобрать экспозицию так точно, чтобы яркость одной из деталей попала на прямолинейный участок характеристической кривой фотоматериала, а другая оказалась в области недодержек (передержек).