В отличие от других разнообразных вариантов диодов, рассматриваемый прибор с двумя выводами может представлять собой однородный образец из полупроводника электронного типа с омическими контактами [8, 14]. В случае сохранения однородности образца характеристика, представленная на рис. 7.2 , определяет ВАХ прибора, т. к. средняя дрейфовая скорость электронов vnпропорциональна току I , а напряженность поля ℇ пропорциональна напряжению на образце U :
I = q n0vn S ; U = ℇ L ,
(7.1)
где S – площадь сечения образца; L – его длина. Однако в общем случае однородность распределения электронов в образце с отрицательной дифференциальной подвижностью нарушается.
Рассмотрим образец n-GaAs с однородным легированием и омическими контактами, показанный на рис. 7.3, а, к которому приложено постоянное напряжение U 0 . Для диода Ганна, как и для электровакуумных ламп, отрицательный электрод принято называть катодом, а положительный – анодом. Значение напряжения задано таким, чтобы напряженность поля в образце ℇ 0 соответствовала точке а на рисунке 7.2.
Предположим, что в некоторой точке x 2 (см. рис. 7.3,б , где показаны распределения поля и концентрации электронов в начальный момент t 1 ) вследствие незначительной неоднородности структуры имеется положительная флуктуация напряженности поля, которая в этой точке превышает среднее значение ℇ 0 и оказывается в области отрицательной дифференциальной подвижности. Как следует из рис. 7.2, дрейфовая скорость электронов в сечении x 2 будет ниже, чем в остальном образце. В результате замедления электронов в данном слое и равномерного более быстрого их движения к аноду на соседних участках происходит некоторое разрежение (снижение концентрации) электронов справа от сечения x 2 и повышение их концентрации слева от этого сечения.
Таким образом, флуктуация напряженности поля в сечении x 2 вызывает вблизи от него флуктуацию концентрации электронов с дипольными зарядами, как показано на рисунке. Электрическое поле ℇ d возникшего диполя совпадает по знаку с внешним тянущим полем ℇ 0 , что приводит к росту исходной флуктуации в сечении x 2 , называемой доменом сильного поля, и к дальнейшему усилению неоднородности концентрации электронов внутри возникшего образования.
К
+U0
А
L
ℇ0
ℇ
ℇ 0
x
x2
x1
x3
n0
n
ℇd
t1
L
0
vd
ℇ '
в)
б)
а)
Рис. 7.3. Образование домена сильного поля
По мере роста домена он продвигается к аноду и принимает на себя растущую долю внешнего напряжения, из-за этого поле ℇ 0 вне домена снижается относительно начального значения ℇ ¢ , и новый домен не образуется. Дрейфовая скорость электронов вне домена также снижается относительно исходного максимального значения при возникновении домена, соответствующего точке а на рисунке 7.2, что приводит к снижению тока через образец.
Через некоторое время (в момент t 2 на рис. 7.3 , в ) на участке между координатами x 2 и x 3 , движущимися вместе с доменом может возникнуть полное обеднение электронами. При некоторых условиях домен перестает расти и достигает стационарной конфигурации, продолжая двигаться к аноду. Это происходит при условии, что средняя скорость электронов внутри домена сравняется с их скоростью вне домена, соответствующей сниженной напряженности поля ℇ 0 . Ток через прибор также принимает стационарное значение. После выхода домена в анод восстанавливается исходное распределение напряженности поля, которое имело место в момент t 1 , и появляются условия для возникновения нового домена сильного поля.
Таким образом, в рассмотренном режиме по образцу периодически пробегают домены сильного поля, вызывая колебания тока (изменение напряжения предполагаем незначительным). Чтобы полностью использовать длину образца и обеспечить зарождение домена вблизи катода, в приконтактной области создается неоднородность, приводящая к повышению напряженности поля в нужном сечении.
Вид колебаний тока через диод Ганна качественно изображен на рис. 7.4.
Рис. 7.4. Колебания тока в образце в пролетном режиме
На кривой обозначены участки, соответствующие различным стадиям периода колебаний:
1) Зарождение домена у катода.
2) Движение и рост домена.
3) Движение стационарного домена.
4) Выход домена в анод.
5) Зарождение нового домена.
Рост домена связан с увеличением падения напряжения на нем и сопровождается снижением тока. Это подтверждает тот факт, что домен характеризуется отрицательным дифференциальным сопротивлением.
Период колебаний T в пролетном режиме определяется длиной образца и средней скоростью движения домена V d. Таким образом для рабочей частоты получаем:
.
(7.2)
Если считать, что средняя скорость движения домена по порядку величины близка к насыщенной скорости дрейфа электронов V d»107 см/с (см. раздел 6.1), для частоты 10 ГГц получим L »10 мкм.
Рассмотрим более детально начальную стадию образования домена. Выделим участок накопления избыточного заряда в домене между координатами x 1 и x 2 (см. рис. 7.5). Обозначим через Q′величину избыточного заряда для участка единичной площади поперечного сечения.
ℇ
Q′
ℇ 2
ℇ1
v 2
v1
x 2
x1
x
n 0
x
n
Рис. 7.5. Зарождение и рост домена
Связь потенциала j с плотностью объемного заряда r описывается уравнением Пуассона:
.
(7.3)
Здесь через es = e e0 обозначена абсолютная диэлектрическая проницаемость полупроводника. Проинтегрируем данное уравнение по рассматриваемому участку.
.
(7.4)
В итоге получаем теорему Гаусса, устанавливающую связь разности значений напряженности поля на границах участка с зарядом, имеющимся на этом участке:
.
(7.5)
При анализе процесса переноса электронов в сильных полях на СВЧ можно пренебрегать явлениями генерации и рекомбинации. Тогда изменение заряда Q′ будет определяться разностью между количествами входящих в рассматриваемый участок и выходящих из него электронов за единицу времени с учетом их скоростей на границах (см. рис. 7.5). При этом уравнение непрерывности для электронов примет вид
.
(7.6)
Перемножив 2 последних уравнения, получим
.
(7.7)
Учитывая, что по определению дифференциальной подвижности
,
(7.8)
получим для выражения в правой части соотношения (7.7)
,
(7.9)
где sd – дифференциальная удельная проводимость; td – время диэлектрической (максвелловской) релаксации, определяющее постоянную времени изменения объемного заряда.
В результате решения уравнения (7.7) с учетом (7.9) получаем закон изменения заряда в полупроводнике:
.
(7.10)
В соответствии с ним, в «обычном» полупроводнике возникший по какой-то причине локальный заряд рассасывается с постоянной времени td. Однако в рассматриваемом случае md < 0 , sd < 0 и td < 0 , поэтому возникающий заряд не рассасывается, а нарастает с постоянной времени, соответствующей уравнению (7.9), до тех пор, пока выполняются приведенные неравенства.