Нагрев частиц при плазменном напылении
При плазменном напылении материал покрытия вводят в струю плазмы столба дуги, где он нагревается и ускоряется по направлению к основе.
Плазма – высокоионизированное состояние газа. Носителем зарядов являются электроны и положительно и отрицательно заряженные ионы. Плазма подчиняется большинству газовых законов и во многих случаях ведет себя как газ. Отличается от газа электропроводностью и взаимодействием с магнитными полями. Плазму считают квазинейтральной (как-бы…) системой, суммарный заряд составляющих которой равен 0. Квазинейтральная плазма – плазма, в среднем электрически-нейтральна в достаточно больших объемах или за достаточно большие промежутки времени [1, 11].
Для нанесения покрытий применяют, так называемую, низкотемпературную, неидеальную плазму, сформированную при атмосферном давлении и представляющую высокотемпературный газ с относительно низкой степенью ионизации. Тплазмы составляет ~ 1 (103…105) К , т.е. несколько электронвольт (1 эВ ~ 11600 К ). Достоинством такой плазмы являются ее хорошие технологические свойства: высокая энтальпия (теплосодержание) и высокая способность передавать температуру и скорость распыляемым частицам.
Ввиду различия энергии электронов, ионов и др. частиц в плазме различают температуры: Те - температура электронов; Тi - температуру ионов; То - атомную температуру. Обычно Те >> Тi > То . Большая разница между Те и Тi характерна для большинства форм газового разряда и объясняется различием массы электронов и ионов. В плазмотронах используется плазма в диапазоне давлений, определяемых из уравнения[9]:
Рпл.стр = (1…10) 105 Па
В интервале температур
Тпл.стр = (2…30) 103 0К.
Критерием сохранения идеальности плазмы является:
КТ >> Uо ,
где Uо - средняя энергия взаимодействия атомов;
К - постоянная Больцмана (1,381 х 10-23 Дж/0К);
Т - абсолютная температура, 0К.
Энергию (температуру плазмы) выражают и в электрон-вольтах:
Тпэ.в. = (КТ/е), э.в ,
где е - заряд электрона, тогда 1 э.в. соответствует температуре:
Идеальность плазмы (полностью ионизированный газ) обеспечивается при условии:
n << [ R T (z2e2)] ,
где п – число частиц в единицах объема;
z - зарядовое число.
Характер распределения температур в различных зонах плазменного потока приведен на рис. 4.
Рис. 4 – Распределение температур в плазменном потоке
Для параметров плазменной дуги при Ig = 400 А и расходе газа аргона (Ar) максимальная температура в катодной области составляет 32000…3000 К, на выходе из плазмотрона 12000 К и в зоне контакта струи с поверхностью 5000…2000 К.
Дата добавления: 2017-02-13; просмотров: 1598;