Классический полуаддитивный метод

По этому методу диэлектрическая подложка металлизируется тонким проводящим слоем.
По проводящему слою на подложку наносится и проявляется фоторезист или трафаретный рисунок из химически стойкой краски. В рельефе проявленного фоторезиста гальванически наращива-ется металл до толщин, обеспечивающих его механическую прочность и токонесущую способность проводников и отверстий (для меди — порядка 25...35 мкм). После этого защитные покрытия (фоторезист, краски) удаляются, в результате в пробельных местах обнажается тонкий проводящий подслой (порядка 1 мкм), который теперь не нужен и подлежит удалению для электрического разобщения элементов печатного монтажа. Стравливание такого тонкого подслоя (1мкм) связано с гораздо меньшими затратами на очистку промышленных стоков, чем травление фольги (18...35 мкм). Мало того, стравливание тонкого слоя не создает такого подтравливания проводников, как для субтрактивных методов. Это означает, что при использовании полуаддитивных методов тонкие проводники и зазоры воспроизводятся гораздо лучше. Можно сказать, что разрешающая способность полуаддитивных методов соизмерима с возможностями используемых фоторезистов.
Распространению полуаддитивных методов мешает слабая сила сцепления проводников с подложкой и химическая неоднородность поверхностей промышленных диэлектриков, заставляющие для их компенсации использовать сложные процессы подготовки (активации) поверхности. В противовес этому производители фольгированных материалов научились изготавливать материалы с ультратонкой фольгой, что снимает необходимость в использовании технологических операций металлизации поверхностей у производителей печатных плат, а для отверстий применять процессы прямой металлизации.
Тем не менее, полуаддитивные методы незаменимы, когда необходимо по тем или иным причинам использовать нефольгированные диэлектрические подложки или получать тонкие проводники и зазоры (менее 0,1 мм).
Схема полуаддитивного процесса:
вырубка· заготовки;
сверление отверстий под· металлизацию;
нанесение тонкого проводящего· подслоя (чаще — тонкослойная химическая металлизация медью толщиной до 1 мкм);
усиление тонкого слоя металлизации —· гальваническая затяжка (до 6 мкм);
нанесение и· экспонирование фоторезиста через фотошаблон - позитив;
основная гальваническая металлизация (до 25 мкм в отверстиях);·
гальваническое нанесение металлорезиста (олова,· олова-свинца, олова-никеля, олова-кобальта, серебра, золота, никеля или др.);
удаление экспонированного· фоторезиста;
вытравливание тонкой металлизации· (гальванической затяжки) с пробельных участков;
· стравливание металлорезиста на основе олова для последующего нанесения паяльной маски;
гальваническое осаждение контактных· покрытий на концевые ламели;
отмывка платы от· остатков технологических растворов;
глубокая· сушка печатной платы;
нанесение паяльной· маски;
нанесение финишных покрытий на монтажные· элементы под пайку;
нанесение· маркировки;
обрезка платы по контуру;·
электрическое тестирование;·
приемка платы — сертификация.·

Преимущества:
использование· нефольгированных материалов;
хорошее· воспроизведение тонких проводников.
Недостатки:
недостаточная адгезия металлизации к диэлектрической· подложке;
контакт открытой поверхности· диэлектрика с растворами металлизации приводит к его загрязнению и требует дополнительных усилий для обеспечения требуемых электроизоляционных свойств.